等離子去膠機(jī)
- 產(chǎn)品編號(hào)：TS-ET15
- 產(chǎn)品規(guī)格： 等離子去膠機(jī)
- 產(chǎn)品用途：
光刻膠、殘膠、膠膜去除
產(chǎn)品介紹
產(chǎn)品參數(shù)：
| 設(shè)備型號(hào) | TS-ET15等離子去膠機(jī) |
| 控制方式 | PLC+觸摸屏 |
| 供電電源 | AC220V（±10V）,50/60hz |
| 等離子源功率 | 300W（連續(xù)可調(diào)） |
| 等離子源頻率 | 13.56MHz |
| 工藝氣體通道 | 2路氣體通道， 可通入氣體：氬氣、氫氣、氧氣、氮?dú)狻⒖諝獾?/span> |
| 氣體流量控制 | 精密針閥式浮子流量計(jì)(2路） |
| 內(nèi)腔尺寸（方形） | L270*W280*H200 mm 材質(zhì)：316不銹鋼 |
| 電極板尺寸 | 230mm *230mm （最大可處理產(chǎn)品：8英寸晶圓，每次可處理一片） |
| 外形尺寸（mm） | 長(zhǎng)550mm x 寬550mm x 高800mm |
產(chǎn)品特點(diǎn)：
去膠快速干凈徹底
對(duì)清洗樣片無損傷
操作簡(jiǎn)單方便
桌面式設(shè)計(jì)，占地面積小
最大可處理8英寸晶圓
典型應(yīng)用：
高劑量離子注入光刻膠的去除
濕法或干法刻蝕前后殘膠去除
MEMS中犧牲層的去除
去除化學(xué)殘余物
去浮渣工藝
SU-8光刻膠去除
負(fù)性光刻膠去除
可以利用等離子去膠機(jī)除去玻璃晶圓表面的部分殘余圖形化光刻膠。